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한국산업기술대학교

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온라인 교육신청

교육개요
교육명 4차 산업용 반도체 공정기술(심화)
교육기간 2일 (2021-07-07 ~ 2021-07-08)
교육시간 총 16시간(1일 8H) (09:00 ~ 17:30)
교육인원 15명
교육장소 한국산업기술대학교내 강의실
특이사항 * 대규모기업의 경우 80% 지원, 20% 교육비 (51,850원) 자부담

* 그 외 기업은 전액 정부 지원 (교육비 및 교재 등)
교육개요 ● 반도체 산업의 이해와 최신 반도체 소자의 미세화 과정 소개
● 4차 산업에 따른 시스템 반도체의 종류와 전략을 이해
● 반도체 웨이퍼 공정 및 마스크 제작을 위한 레이아웃의 이해
● 반도체 제조의 핵심 8대 공정에 대한 자세한 원리
교육내용
일차 시간 교육 내용
1일 오전( 09:00 ~ 10:50 )

반도체소자와 공정기술 한계극복

오전( 10:50 ~ 12:50 )

메모리반도체 핵심기술과 이머징 메모리 기술동향

오후( 13:30 ~ 15:20 )

4차 산업혁명과 시스템 반도체

(AI반도체자율주행차사물인터넷)

오후( 15:30 ~ 17:30 )

4차 산업혁명과 시스템 반도체

(빅데이타양자컴퓨터, 5G 이동통신등)

2일 오전( 09:00 ~ 10:50 )

Wafer 및 CMOS Layout 반도체 산업 구조

오전( 10:50 ~ 12:50 )

반도체 단위공정

산화막, 증착공정

오후( 13:30 ~ 15:20 )

반도체 단위공정

노광공정 및 식각공정

오후( 15:30 ~ 17:30 )

반도체 단위공정

이온주입, 금속화, 평탄화 공정 및 세정


  * 교육일정 및 커리큘럼은 강사 등 사정에 따로 일부 변동 될 수 있사오니 사전에 인력양성팀에 문의해 주시기 바랍니다.