한국공학대학교 국가인적자원개발컨소시엄 전략분야

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교육 과정

교육개요

교육명	반도체소자 설계기법과 8대 공정기술
교육기간	1일 (2024-04-17 ~ 2024-04-17)
교육시간	총 6시간(1일 6H) (10:00 ~ 17:00)
교육인원	12명
교육장소	한국공학대학교내 강의실
특이사항	* 대규모기업의 경우 80% 지원, 20% 교육비 (24,390원) 자부담 * 그 외 기업은 전액 정부 지원 (교육비 및 교재 등) * 신청 마감시 대기자로 등록됩니다.
교육개요	[교육 대상] ● 반도체 업무에 종사하는 초급직원 및 공정기술을 담당하는 업무 종사자 ● 반도체 재료, 장비관련 업무 종사자 [교육 개요] ● 반도체 산업 동향과 경쟁력 강화 ● 반도체소자(MOSFET, FinFET, DRAM, Flash)와 공정기술 한계극복 이해 ● 반도체의 공정 핵심 8대 공정에 대한 이해

교육내용

일차	시간	교육 내용
1일	오전( 10:00 ~ 10:50 )	반도체 산업 동향과 경쟁력 강화 - 2024년 반도체 산업 동향 - 시스템 반도체 비전과 전략 반도체소자(MOSFET, FinFET, DRAM, Flash)와 공정기술 한계극복 전자부품 고장 분석 사례
	오전( 11:00 ~ 11:50 )
	오후( 13:00 ~ 13:50 )
	오후( 14:00 ~ 14:50 )	반도체 8대 공정기술 이해 (Photo, Etch, Clean, CMP, Diffusion, IMP, Metal, CVD)
	오후( 15:00 ~ 15:50 )
	오후( 16:00 ~ 16:50 )

* 교육일정 및 커리큘럼은 강사 등 사정에 따로 일부 변동 될 수 있사오니 사전에 인력양성팀에 문의해 주시기 바랍니다.